○ 產(chǎn)品介紹

PECVD石墨烯薄膜制備系統(tǒng)借助13.56MHz的射頻輸出等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內(nèi)形成等離子體，利用等離子體的強(qiáng)化學(xué)活性，改善反應(yīng)條件，使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。PECVD石墨烯薄膜制備系統(tǒng)設(shè)備可以用于：石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種實(shí)驗(yàn)場所。

○ 適用范圍

PECVD石墨烯薄膜制備系統(tǒng)設(shè)備可以用于：石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種實(shí)驗(yàn)場所。

○ 技術(shù)參數(shù)

多溫區(qū)加熱系統(tǒng)
序號(hào)	功能名稱	技術(shù)要求
01	工作溫度	室溫～1200℃,長期工作溫度≦1100℃
02	加熱區(qū)長度	三溫區(qū)加熱，各溫區(qū)可獨(dú)立控溫，恒溫區(qū)長度為550
03	控制模式	30段智能PID 多段程序控溫
04	控溫精度	±1℃
05	升溫速率	0～20℃/min
06	測溫元件	3支K型熱電偶
07	溫控保護(hù)	具有超溫和斷偶保護(hù)功能
08	爐管	高純石英管，能耐長期1100℃工作溫度
09	爐管尺寸	石英管外徑100mm
10	爐膛結(jié)構(gòu)	開啟式
11	爐膛材料	進(jìn)口纖維，保溫性能好，反射率高，溫場均勻
12	密封方式	真空不銹鋼水冷法蘭
13	閥門	KF25擋板閥
14	電源	380V/220V  50Hz
15	溫度記錄	可以實(shí)現(xiàn)溫度曲線記錄
16	爐殼溫度	≦45℃
單溫區(qū)加熱系統(tǒng)
序號(hào)	功能名稱	技術(shù)要求
01	工作溫度	室溫～1200℃,長期工作溫度≦1100℃
02	加熱區(qū)長度	單溫區(qū)加熱，恒溫區(qū)長度為200mm
03	控制模式	30段智能PID 多段程序控溫
04	控溫精度	±1℃
05	升溫速率	0～20℃/min
06	測溫元件	K型熱電偶
07	溫控保護(hù)	具有超溫和斷偶保護(hù)功能
08	爐管	高純石英管，能耐長期1100℃工作溫度
09	爐管尺寸	石英管外徑100mm
10	爐膛結(jié)構(gòu)	開啟式
11	爐膛材料	進(jìn)口纖維，保溫性能好，反射率高，溫場均勻
12	密封方式	真空不銹鋼水冷法蘭
13	閥門	KF25擋板閥
14	電源	380V/220V  50Hz
15	溫度記錄	可實(shí)現(xiàn)溫度曲線記錄
16	爐殼溫度	≦45℃
RF輸出系統(tǒng)
序號(hào)	功能名稱	技術(shù)要求
01	功率范圍	0～500W連續(xù)可調(diào)
02	工作頻率	13.56MHz+0.005％
03	工作模式	連續(xù)輸出
04	顯示模式	LCD
05	匹配阻抗范圍	能夠匹配，起輝輝光均勻布滿三溫區(qū)爐管
06	功率穩(wěn)定度	≦2W
07	正常工作反射功率	≦3W
08	較大反射功率	≦70W
09	諧波分量	≦-50dBc
10	整機(jī)效率	≥70%
11	功率因素	≥90%
12	供電電壓/頻率	單相交流（187V～253V） 頻率50/60HZ
13	控制模式	內(nèi)控/PLC 模擬量/RS232/485 通訊
14	電源保護(hù)設(shè)置	DC 過流保護(hù)，功放過溫保護(hù)，反射功率保護(hù)
15	冷卻方式	強(qiáng)制風(fēng)冷
16	起輝長度	在Ar下射頻電源與線圈配合起輝輝光需能布滿整個(gè)三溫區(qū)的爐體長度
氣體流量控制
序號(hào)	功能名稱	技術(shù)要求
01	四路質(zhì)子流量計(jì)	北京七星華創(chuàng)，質(zhì)子流量計(jì)
02	流量范圍	MFC1量程：0～200sccm  MFC2量程：0～200sccm  MFC3量程：0～500sccm  MFC4量程：0～500sccm  分別對應(yīng)氣體 H2、CH4、N2、Ar
03	測量精度	±1.5％F.S.
04	重復(fù)精度	±0.2% FS
05	線性精度	±1％F.S.
06	響應(yīng)時(shí)間	≤4sec
07	工作壓力	-0.15MPa～0.15MPa
08	流量控制	液晶觸摸屏控制，數(shù)字顯示，每路氣體含有針閥單獨(dú)控制
09	進(jìn)氣接口	可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管
10	出氣接口	可接1/4NPS或外徑6mm不銹鋼管
11	連接方式	雙卡套接頭
12	工作溫度	5～45℃
13	氣體預(yù)混	配氣體預(yù)混裝置
真空要求
序號(hào)	功能名稱	技術(shù)要求
01	真空泵	配置進(jìn)口或國產(chǎn)真空泵，爐管背景真空達(dá)5×10-1 Pa
02	系統(tǒng)漏率	≤1.4×10-3 Pa.L/s
03	真空測量	Inficon防腐蝕超純陶瓷傳感器
04	真空測量范圍	0.01Pa～1000Pa，測量精度0.2％
05	真空壓力表	配置一個(gè)通用真空壓力表用于系統(tǒng)真空粗測
06	連接管道	不銹鋼波紋管，手動(dòng)擋板閥與法蘭與真空泵連接
軌道功能
序號(hào)	功能名稱	技術(shù)要求
01	滑軌長度	2.5米～3米，能實(shí)現(xiàn)三溫區(qū)爐子一個(gè)爐位長度的滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)快速升降溫
02	主要參數(shù)	手動(dòng)滑動(dòng)，可實(shí)現(xiàn)管式爐和等離子體發(fā)生器的滑動(dòng)控制，達(dá)到快速降溫，射頻放射調(diào)節(jié)
03	特殊定制	軌道上安裝方便拆卸的法蘭支架，用以支撐爐管長度改變時(shí)的端口法蘭；單溫區(qū)爐子可以拆裝至滑軌上與等離子體源配合使用；等離子體發(fā)生器可以拆卸

○ 滑軌需要滿足的要求

（1）常用方式是：等離子體發(fā)生器+三溫區(qū)爐配合，其中導(dǎo)軌可以讓三溫區(qū)爐有一個(gè)爐位的滑動(dòng)；

（2）希望的搭配使用方式1是：等離子體發(fā)生器+單溫區(qū)管式爐；

（3）希望的搭配使用方式2是：單溫區(qū)管式爐+等離子體發(fā)生器+三溫區(qū)爐（此時(shí)三溫區(qū)爐不需要滑動(dòng)快速升降溫）

○ 免責(zé)聲明

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