三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計(jì)，腔體空間大，可拓展性強(qiáng)，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺(tái)，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)、加熱，所有操作均通過觸控屏集成控制。設(shè)備的真空泵組為兩級(jí)式真空系統(tǒng)，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗(yàn)提供清潔無油的高真空的環(huán)境；真空系統(tǒng)內(nèi)含有完善的氣動(dòng)閥系統(tǒng)，用戶可通過觸控屏進(jìn)行一鍵式操作實(shí)現(xiàn)抽取真空、不停機(jī)取放樣、完全停機(jī)等操作。

三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀詳情介紹：

 本設(shè)備的蒸發(fā)源共三組，采取鎢舟蒸發(fā)源，水冷式銅電極，可*大支持260A的大電流，加熱溫度*高可達(dá)1800℃，可實(shí)現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍，三組獨(dú)立熱蒸發(fā)源，不會(huì)導(dǎo)致鍍材互相污染。本設(shè)備采用一體化設(shè)計(jì)，腔體和電控部分左右分置，實(shí)現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計(jì)，真空系統(tǒng)、樣品臺(tái)等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨(dú)立操作，在盡可能方便用戶的同時(shí)規(guī)避了誤操作的可能。該設(shè)備設(shè)計(jì)完善性能優(yōu)越，是實(shí)驗(yàn)室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗(yàn)的必備之選。

 三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：

金屬和介電膜

薄膜傳感器的制造

光學(xué)元件

納米與微電子

太陽能電池

 三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀
樣品臺(tái)	尺寸	*大支持φ150mm樣品
	功能	可旋轉(zhuǎn)，*高加熱500℃
蒸發(fā)源	數(shù)量	鎢舟x3
電源	每個(gè)蒸發(fā)源配一組獨(dú)立電源；三個(gè)蒸發(fā)源共三組獨(dú)立電源
真空腔體	腔體尺寸	φ300x400mm
	觀察窗口	前置φ100mm
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	前開門式
膜厚控制（選配）	晶振式膜厚測(cè)量?jī)x，可選多通道膜厚控制儀
真空系統(tǒng)	前級(jí)泵	雙極旋片泵
	抽氣接口	KF16
	次級(jí)泵	渦輪分子泵
	抽氣接口	CF160
	真空測(cè)量	電阻+電離 復(fù)合真空規(guī)
	排氣速率	機(jī)械泵1.1L/s 分子泵 600L/s
	極限真空	1.0E-5Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	旋片泵：1.1L/S
控制系統(tǒng)	PLC自動(dòng)控制 操作界面：觸控屏+操作面板 （觸摸屏可控制沉積過程和快速數(shù)據(jù)輸入；用戶友好 PLC 軟件系統(tǒng)，可以通過網(wǎng)絡(luò)更新）
其他	供電電壓	AC380V,50Hz
	整機(jī)尺寸	1000mm X 800mm X 1500mm
	整機(jī)功率	5kW
	整機(jī)重量	350kg