鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。

雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

技術參數：

產品名稱	雙靶磁控濺射儀
濺射電源	安裝有兩個直流電源 直流（DC）電源：500W
真空腔體	真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作 觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
磁控濺射頭	儀器中安裝有 2 個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水 對靶材降溫 兩個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材
載樣臺	載樣臺尺寸：140mm dia.（*大可放置 4"的基底） 載樣臺可以旋轉，其速度為：1 - 20 rpm （可調） 載樣臺*高可加熱溫度為 500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
氣體流量控制器	儀器內部安裝有 2 個質量流量計 量程為：0-200sccm
真空泵	配有一套分子泵系統,采用一鍵式操作 80L/S
水冷系統	16L/min.
電壓	220V 50HZ