0371-5536 5392 0371-5519 9322
設(shè)備配有三支磁控靶，兩套直流電源，可用于鍍多層導(dǎo)電金屬膜。同時(shí)設(shè)備具有主腔室和過(guò)渡艙兩部分，過(guò)渡艙配有磁力推桿，兩個(gè)艙室之間裝有真空閘板閥；用戶(hù)可以在主腔室進(jìn)行濺射工作的同時(shí)，在過(guò)渡艙裝填樣品，并進(jìn)行真空預(yù)抽，待主腔室濺射完成后即可將樣品通過(guò)磁力推桿推入主腔室的樣品臺(tái)。這樣的設(shè)計(jì)能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù)，不僅能有效節(jié)省時(shí)間，更能保證更好的本地真空，有效提高鍍膜質(zhì)量。
三靶磁控鍍膜儀 技術(shù)參數(shù)：
|
供電電源 |
VAC 110, 60Hz |
|
|
樣品 臺(tái) |
位置 |
下部，帶擋板 |
|
直徑尺寸 |
φ150mm |
|
|
可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
0-20rpm 可調(diào) |
|
|
加熱溫度 |
RT~500oC |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ325xH510mm |
|
腔體材料 |
304 不銹鋼 |
|
|
內(nèi)壁處理 |
電解拋光 |
|
|
密封方式 |
氟橡膠密封 |
|
|
觀察窗口 |
φ100mm（帶擋板） |
|
|
磁控靶 槍 |
數(shù)量 |
3 |
|
擺頭角度 |
可調(diào)角度 -45~45 度 |
|
|
濺射方向 |
向下濺射 |
|
|
靶材平面 |
圓形平面靶 |
|
|
靶材直徑 |
2英寸 |
|
|
靶材厚度 |
*厚3mm |
|
|
直流電源 |
數(shù)量 |
2臺(tái) |
|
電源功率 |
0~500W |
|
|
輸出電壓 |
0～600V |
|
|
*大輸出電流 |
1A |
|
|
啟動(dòng)時(shí)間 |
1~10S |
|
|
射頻電源 |
數(shù)量 |
1臺(tái) |
|
電源功率 |
0~500W |
|
|
射頻頻率 |
13.56MHz |
|
|
匹配方式 |
自動(dòng)匹配 |
|
|
反射功率 |
≦100W |
|
|
功率穩(wěn)定性 |
±0.1% |
|
|
膜厚監(jiān)測(cè)儀 |
通道數(shù) |
單通道 |
|
測(cè)量精度 |
0.1 ? |
|
|
測(cè)量速度 |
100ms-1s/次，可設(shè)置測(cè)量范圍：500000?（鋁） |
|
|
標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體 |
6MHz |
|
|
適用晶片尺寸 |
Φ14mm |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級(jí)泵 |
雙極旋片泵，抽速1.1L/s |
|
渦輪分子泵 |
抽速600L/s 額定轉(zhuǎn)速：27000rpm 啟動(dòng)時(shí)間：≦5min 冷卻方式：水冷 |
|
|
真空度 |
5x10-4Pa |
|
|
真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍10-5Pa ~ 105 Pa |
|
|
過(guò)渡倉(cāng) |
腔體尺寸要適用于*大4英寸的晶圓 配備分子泵組： 前級(jí)泵：VRD-4，抽速1.1L/s 分子泵：日本TG60F，抽速60L/s |
|
|
水冷機(jī) |
冷卻水流速 |
10L/min |
|
整機(jī)功率 |
0.1KW |
|
|
冷卻功率 |
50W/℃ |
|
|
水箱容量 |
9L |
|
|
氣體控制 |
1路質(zhì)量流量計(jì)： Ar氣，范圍0-200sccm |
|
|
控制系統(tǒng) |
PLC自動(dòng)控制 |
|
