桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去除鋁靶表面的氧化層，十分適合鍍鋁等對(duì)空氣十分敏感的材料。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。

名稱	桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）
特點(diǎn)	速度快溫升低 高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去除鋁靶表面的氧化層，十分適合鍍鋁等對(duì)空氣十分敏感的材料 小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別
技術(shù)參數(shù)	樣品臺(tái)： 直徑100mm，可加熱 *高溫度500℃，可旋轉(zhuǎn) 0-20rpm 可調(diào) 磁控靶槍： 2 英寸圓形平面靶,  真空腔體： Φ180mm × H 215mm;高純石英; 觀察窗口 全向透明; 開啟方式 頂蓋拆卸式 直流電源： 輸出功率 *大500W ，數(shù)量 1 真空系統(tǒng)   機(jī)械泵 旋片泵 抽速 1.1L/S，抽氣接口 KF16 排氣接口 KF16  分子泵 渦輪分子泵 抽速 600L/s， 抽氣接口 KF40 排氣接口 KF40  真空測(cè)量 電阻規(guī)+電離規(guī)  極限真空 1.0E-4Pa 供電電壓：AC220V 50H 整機(jī)功率 2kw 整機(jī)尺寸：550*350*500mm