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TN-MSP300S-2RF 雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
特點：
1. 磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；2. 兩個射頻電源，300w-1000W射頻電源可用于非金屬薄膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
3. 高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；
4. 渦輪分子泵組，極限真空可達10E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。
5.一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。
技術參數：
型號
TN-MSP300S-2RF
供電電壓
AC220V，50Hz
整機功率
6KW
極限真空度
5*10-4Pa
樣品臺
尺寸：φ150mm
加熱溫度：500℃ max.；控溫精度：+-1℃
轉速：1-20rpm 可調節
磁控濺射頭
尺寸：2英寸，數量：2；冷卻方式：水冷 所需流速10L/min
水冷機：10L/min 循環水冷
真空腔體
尺寸：φ300mm*340mm；材料：不銹鋼
觀察窗：φ100mm；開啟方式：上頂開啟，便于更換靶材
氣體流量控制
1路，200sccm ，Ar
真空泵
分子泵組，抽速600L/S
濺射電源
兩臺 射頻電源 500-1000W 可選
膜厚儀
石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
操作方式
一體機電腦操作
整機尺寸
1090mm X 900mm X 1250mm
整機重量
350kg
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