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蒸發鍍膜儀的應用與功能特點
日期：2026-03-03 12:36
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摘要：
蒸發鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。
蒸發鍍膜儀功能特點：
采用桌面小型一體化結構，將真空腔體、鍍膜電源及控制系統進行整合設計，體積與一臺A3打印機相仿。
采用電阻式雙蒸發源結構，可快速實現蒸發源的轉換。蒸發單元中裝有兩組蒸發電極可安裝不同的蒸發源，適應相應的鍍膜材料。
配有0.1%精度蒸發電源，并具有恒流輸出功能，對蒸發舟能起到很好的保護作用。
可選配石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
可將采集到的鍍膜數據保存到U盤，便于用戶分析控制（選配）。
本機將所有功能設計成標準化模塊，根據用戶不同的需求對相應模塊進行組合，以達到**化的鍍膜環境，并便于用戶維修與維護。
操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實現全圖形化界面，易用易懂。