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產(chǎn)品名稱：帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號：
產(chǎn)品廠商：其它品牌
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簡單介紹：

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜，該帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀添加偏壓電場，增強離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力

詳情介紹：

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。除此之外本設(shè)備還配有偏壓電源，能夠在靶材和樣品臺間添加偏壓電場，增強離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力。整機均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實驗室制備薄膜的理想設(shè)備。

名稱	帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀
特點	鍍膜速率高，樣品溫升低，典型的高速低溫濺射偏壓電源增強離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手
技術(shù)參數(shù)	供電電壓： AC220V，50Hz 整機功率：3KW 極限真空度：10-6torr 載樣臺參數(shù)：尺寸 φ140mm；加熱溫度 *高500℃；控溫精度 ±1℃；轉(zhuǎn)速 1-20rpm可調(diào) 磁控濺射頭：2個2”磁控濺射頭；水冷（水冷機規(guī)格 10L/min流速的循環(huán)水冷機）真空腔體：尺寸 φ300mm X 300mm H，不銹鋼觀察窗口：φ100mm 開啟方式：上頂開式，便于更換靶材氣體流量控制器： 2路分別通Ar，N2；量程均為0-100sccm 真空泵：配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S 膜厚儀：石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? 濺射電源：直流電源一臺，1000W，適用于制備金屬膜射頻電源一臺，500W，適用于非金屬鍍膜操作方式面板按鈕操作
規(guī)格	尺寸：1400mm X 750mm X 1300mm；重量：300kg

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